đo EIS của 4 mẫu lớp phủ
Mục tiêu:để đánh giá khả năng bảo vệ lớp phủ ((thông qua các phương pháp xử lý khác nhau) trên thép carbon thấp dựa trên các phép đo EIS
Bốn loại mẫu:
# 1: lớp phủ mẫu thông qua tấm dầu thủy tinh hóa
# 2: lớp phủ mẫu thông qua Phosphating tấm dầu
# 3: lớp phủ mẫu thông qua mảng thụ động không có Chromium thủy tinh hóa
# 4: lớp phủ mẫu thông qua Chrom-free tấm thụ động khử mỡ
Phương tiện ăn mòn:3dung dịch NaCl 0,5%
Phương pháp thử nghiệm:EIS - Tần số
Thiết lập thí nghiệm:CS350 potentiostat galvanostat, CS936 pin ăn mòn phẳng,2Các tế bào được đặt trong một lồng Faraday.
Pt mesh (được tích hợp trong tế bào ăn mòn phẳng) như CE, điện cực calomel bão hòa CS900 như RE, mẫu lớp phủ như WE.
Cài đặt tham số: Phạm vi AC là 10mV trong khi đo, dải tần số là 100kHz ~ 0.01Hz, chọn quét logarithmic, điểm / thập kỷ là 10
| Thời gian thử nghiệm/h | 0.01Hz chống áp lớp phủ /Ω•cm2 | |
| # 1 thủy tinh hóa | # 2: Phosphating | |
| 24 | 1.11×109 | 9.73×108 |
| 72 | 2.99×109 | 3.18×109 |
| 240 | 6.40×109 | 3.10×109 |
| 480 | 4.65×109 | 2.42×109 |
| Thời gian thử nghiệm/h | 0Kháng áp lớp phủ 0,01Hz/Ω•cm2 | |
| Mẫu # 3 | Mẫu # 4 | |
| 24 | 1.08×109 | 1.12×109 |
| 72 | 2.89×109 | 2.80×109 |
| 240 | 3.01×109 | 2.92×109 |
| 480 | 2.59×108 | 7.38×108 |
